大日本印刷が堅調推移。同社は９日、半導体の回路パターン形成に使用するナノインプリントリソグラフィー（ＮＩＬ）向けに１．４ナノメートル（ナノは１０億分の１）世代相当のロジック半導体にも対応可能な回路線幅１０ナノメートルのテンプレートを開発したと発表した。製造コストの削減と環境負荷の低減を両立し、ＮＡＮＤ型フラッシュメモリーや最先端ロジック半導体の微細化ニー