Intelが200億ドル(約2兆3000億円)以上の初期投資を行い、アメリカ・オハイオ州に2つの新しい半導体工場を建設する計画を発表しました。この投資は世界中で高まる半導体需要に対応し、生産を拡大し、Intelの新世代の革新的な製品を供給していく戦略「IDM 2.0」の一環となります。Intel Announces Next US Site with Landmark Investment in Ohiohttps://www.intel.com/content/www/us/en/newsroom/news/intel-announces-next-us-sit