信越化学工業・斉藤恭彦社長を直撃 生成AIなど新たなニーズが生まれる中、半導体事業の今後は？
ー 信越化学は塩ビ、シリコンウエハーなど、会社の根幹を成す事業を築いてきました。今後10年、20年の中長期的な展望を聞かせてください。
斉藤 幸いにして、現在取り組んでいる事業は業界と市場の中で地位を確立しています。これらを伸ばしていくことが重要です。今期の数値も前年比プラスで推移しています。しかし、現在の地位に安住してはいけません。新しいことにも取り組んでいます。
ー 半導体関連にしても、今は生成AI（人工知能）など新たなニーズが生まれていますが、自社の強みをどう伸ばしていこうと？
斉藤 私どもの材料を、お客様に使っていただかなければいけません。半導体業界は、お客様の数は決して多くはありません。限られたお客様に「信越化学の製品であれば間違いがない」、「必要なものを必要な時に届けてくれる」と頼っていただける存在である必要があります。
半導体の技術については「ムーアの法則」（半導体集積回路の集積率は18カ月、または24カ月で2倍になる）は終焉したと言われましたが、今も改めて目を見張るような技術の進歩があります。材料は、その進歩を支える役割があり、しっかりお客様の要望を捉えていかなければいけません。
私たちは技術の急速な進歩に食らいついていくとともに、少しでも先んじることができるように取り組んでいます。
ー 独自の技術を追求すると同時に、他社との連携についてはどう考えていますか。
斉藤 自前で全てやろうとは考えていません。しかし、自らの技術がしっかりしていなければ他社との連携もできません。例えば現在、当社は次世代のパワー半導体向け材料の開発に取り組んでおり、その中でGaN（窒化ガリウム）基板に注力しています。
世界で様々なパワー半導体向け材料が競合している中で、当社は米Qromis社が開発したQSTⓇ基板（GaN成長専用の複合材料基板で、19年に信越化学がライセンス取得）を活用するとともに、開発には沖電気工業さんと共同で取り組んでいます。GaNデバイスはパワー半導体だけでなく、高速で大容量の通信を可能とするなど、非常に応用範囲が広いのです。
特に今後、高電圧の電流を制御する目的での需要が期待できます。例えばデータセンターが高度化し、AI（人工知能）を兼ね備えたデータセンターへの投資が相当な勢いで進んでいます。
AIは大量に電力を消費しますから、電力効率が極めて重要になります。この点で、GaNデバイスは大いに貢献します。
GaNデバイスの拡大には、やはりコスト競争力を高めなければなりません。沖電気工業さん、スタートアップ、そして私たちがそれぞれ保有する様々な技術を掛け合わせることにより、最適な解を見つけようと考えて取り組んでいます。
ー 海外で研究開発を進める考えもありますか。
斉藤 まずは技術を確立させる。その技術をどこで形にしていくかは、その後の問題だと思います。
ー 産・官・学連携という言葉がありますが、その中でも大学は研究開発をする上で重要な知の拠点たり得ます。どう連携を進めていきますか。
斉藤 大学との連携の方法はいくつかあります。1つは大学が開発した、あるいは見出した技術を利用することです。これまでも適宜、必要な技術についてはライセンスを受けてきていますし、今後も同様に進めていきます。
もう1つは、研究を大学に委託するという方法です。大学では知見を持った先生方、優秀な学生さんらが特色ある研究開発を進めており、それぞれ得意分野が異なります。
