主要な企業:

● Canon Inc
● Nikon Corporation
● ASML
● Ultratech Inc.
● Vistec Semiconductor Systems
● Intel Corporation
● Nikon Corporation
● NuFlare Technology Inc.
● Samsung Corporation

セグメンテーションの概要

光源別

● レーザー生成プラズマ （LPP）
● 真空スパーク
● ガス放電

装置別

● マスク
● 光源
● ミラー
● その他

今後の展望：EUVLは次世代デバイスの基盤技術へ

EUVLシステム市場は、2031年に向けてさらに成長が加速すると見込まれます。半導体微細化の限界を突破する重要技術として、EUVLは次世代デバイスの開発を支える基盤となり、AI社会、デジタル社会の発展を後押しします。今後はEUVLのさらなる進化に加え、ハイNA EUV（高開口数EUV）など新しい技術も登場しており、EUVL市場は継続的な成長と技術革新が見込まれる極めて有望な分野といえます。

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