半導体リソグラフィ露光装置とは 半導体リソグラフィ露光装置は、ウェハ製造、先端パッケージング、MEMS、化合物半導体、パワーデバイス、CIS、IC基板製造など多分野において中核的役割を担うパターン転写装置である。EUV、DUV、i線、g線、ナノインプリント、マスクレスダイレクトイメージングなど多様な技術体系が併存し、用途ごとに最適化が進む。 性能指標としては、解像度、オーバー