韓中日の特許庁トップが会合 商標分野の協力強化で一致

【大田聯合ニュース】韓国の朴原住（パク・ウォンジュ）特許庁長は１３日、中国・武漢で中国国家知識産権局の申長雨局長、日本特許庁の宗像直子長官と会合を開き、これまで推進してきた特許審査、デザイン、教育分野での３カ国間の協力を持続・強化するとともに、商標分野での協力を新たに進めることで合意した。

　

　３カ国の交流増加により商標権保護の重要性が高まる中、今回の合意で韓国企業との協力需要が多い中国の商標分野の協力チャンネルが拡大・強化される見通しだ。

　３カ国の特許庁トップは、国際的に知的財産権を巡る紛争が増加し、知的財産権の訴訟分野における特許庁間の協力の必要性が次第に高まっているという認識で一致し、協力を続けることで合意した。

　このほかデザイン保護、知的財産権教育分野での協力も強化することを決めた。

　朴庁長は「韓中日は世界の特許の６０％、特許協力条約（ＰＣＴ）国際特許の４７％を担い、特許に関する限り世界最大の経済圏だ」と述べ、３カ国の特許庁の協力と競争の必要性を強調した。