by ライブドアニュース編集部
ざっくり言うと
この記事の見出しと要約はライブドア社が開発したAIにより自動生成されたものです。実験的な機能のため、記事本文と併せてご確認ください。
- UBSが中国の半導体EUV技術はASMLに15年遅れとの報告書を発表した
- 中国はASMLの2004年水準にとどまり、10年以内の代替確立は困難とのこと
- 一方でDUV露光装置は2~5年以内に大規模製造能力を得る可能性が高いという
