レポートオーシャン株式会社プレスリリース : フォトレジスト市場は2035年に95億米ドルへ拡大、CAGR 5.5％で成長｜EUV・先端半導体・微細加工需要が市場拡大を牽引
近年では、単なる半導体製造材料としてだけではなく、持続可能性を考慮した次世代材料開発にも注目が集まっています。特にフォトレジスト用セルロース濃縮物は、セルロース系バイオポリマーと高機能フォトリソグラフィー材料を融合させた革新的な研究領域として期待されています。環境負荷低減や脱炭素化への要求が高まる中、従来の化学材料に代わる生分解性材料の開発は、今後の市場競争力を左右する重要なテーマとなっています。
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AI・自動車・IoTが加速する半導体需要、フォトレジストへの投資を押し上げる
フォトレジスト市場の成長を支える最大の要因は、半導体需要の世界的な拡大です。自動車、民生用電子機器、産業オートメーション、IoT機器の普及により、高性能集積回路（IC）の需要は急速に増加しています。特に現代の自動車には、先進運転支援システム（ADAS）、電動パワートレイン、車載インフォテインメント、各種センサーなど、多数の半導体部品が搭載されており、自動車産業のデジタル化がフォトレジスト市場の新たな成長エンジンとなっています。
また、スマートフォン、ウェアラブルデバイス、スマートホーム機器、産業用制御システムの普及も、高度な半導体製造プロセスへの需要を高めています。これらの次世代デバイスでは、より複雑で高密度な回路パターンが必要となるため、微細加工を可能にする高性能フォトレジスト材料が不可欠です。さらに、5G通信網の拡大、AI処理能力への需要増加、エッジコンピューティングの普及により、半導体メーカーは先端プロセスノードへの投資を強化しており、極めて高い精度を実現できるフォトレジスト技術への需要が拡大しています。
政府主導の半導体戦略が市場成長を後押し、地域サプライチェーン強化が進展
フォトレジスト市場では、各国政府による半導体産業強化政策が重要な成長要因となっています。世界的な半導体供給網の不安定化を受け、多くの国が国内製造能力の強化と先端半導体技術への投資を推進しています。米国では、2022年に成立した「CHIPS and Science Act（CHIPS・科学法）」により、半導体研究開発および国内製造能力向上に向けて約527億ドルの支援策が導入されました。この政策により、半導体製造施設の新設や研究開発投資が促進され、先端リソグラフィー材料であるフォトレジストへの需要拡大につながっています。
一方、中国では「中国製造2025」政策を通じて、半導体を含むハイテク産業の自立化を推進しています。国内半導体エコシステムの構築に向けた大規模投資は、フォトレジストや関連材料メーカーにとって大きな事業機会を創出しています。こうした政府支援による半導体製造拠点の拡大は、今後もフォトレジスト市場の長期的な成長を支える重要な要素となります。
