化合物半導体湿式洗浄装置世界総市場規模 化合物半導体湿式洗浄装置は、ガリウムヒ素（GaAs）や窒化ガリウム（GaN）などの化合物半導体ウェハを対象とした表面洗浄装置です。この装置は、化学薬液や超純水を用いてウェハ表面の微細な粒子、金属不純物、有機物などを効率的に除去することを目的としています。洗浄プロセスは、前処理、化学洗浄、すすぎ、乾燥といった一連のステップで構成され、化合物半導体湿式洗浄装置は高精度