ウェハー洗浄装置で世界トップシェア！SCREENの技術進化を探る【IVS2026】

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国内最大級のスタートアップカンファレンス「IVS2026」が、2026年7月1日から3日まで京都で開催された。会場にブースを構えたのが、ウェハー洗浄装置で世界トップシェアを誇るSCREENだ。印刷・写真製版を原点とする技術は、どのように半導体製造装置へと発展し、ライフサイエンスや水素、量子関連分野へ広がっているのか。ブース担当者に、SCREENの歩みと今後の挑戦を聞いた。

■ 印刷所から半導体製造装置へ、SCREENの技術の原点
SCREENグループの歴史は、1868年に創業した石田旭山印刷所から始まった。その後、1934年に写真製版用ガラススクリーンの国産化に成功。研究開発部門が独立する形で、1943年に大日本スクリーン製造株式会社が設立された。現在の「SCREEN」という社名も、このガラススクリーンに由来する。

同社が掲げる「思考展開」は、社名の由来ではなく、創造と発展に挑み続ける創業の精神を表したものだ。

ブース担当者は、現在の装置技術と印刷とのつながりについて、「塗る」「削る」「洗う」「きれいにする」といった印刷工程の発想が、半導体やディスプレーなどの製造装置にも生かされていると説明した。

一見すると、印刷と最先端の半導体製造は異なる分野に見える。しかし、材料の表面に薬液を均一に塗布したり、不要な物質を取り除いたり、微細な図形を正確に描いたりする技術には共通点がある。

SCREENは現在、「表面処理技術」「直接描画技術」「画像処理技術」をコア技術として、さまざまな事業に応用している。

■ 先端半導体の複雑な製造工程を支えるウェハー洗浄装置
SCREENグループの主力事業の一つが、ウェハー洗浄装置をはじめとする半導体製造装置だ。
ブース担当者によると、最先端半導体の製造工程は2,000を超える場合があり、そのうち約3分の1が洗浄に関連する工程だという。

半導体の製造では、成膜や加工などの工程を繰り返す中で、ウェハーの表面に微粒子や有機物、金属などの汚染物質が付着することがある。回路の微細化が進むほど、わずかな汚れも歩留まりや性能に影響するため、工程の途中でウェハーを繰り返し洗浄する必要がある。

SCREENの公表によると、同グループは枚葉式洗浄装置、バッチ式洗浄装置、スピンスクラバーの各カテゴリーで世界トップシェアを持つという。同社の洗浄技術は、最先端半導体を含む幅広いデバイスの製造工程を支えている。

■ ディスプレーやプリント基板、先端パッケージにも広がる技術
SCREENの技術は、半導体のウェハー洗浄だけにとどまらない。