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水溶液ミストで窒化銅(Cu3N)薄膜を低温・低コスト・大面積形成 7月9日にJST新技術説明会でオンライン公開@Press

水溶液ミストで窒化銅(Cu3N)薄膜を低温・低コスト・大面積形成 7月9日にJST新技術説明会でオンライン公開

by ライブドアニュース編集部

ざっくり言うと

この記事の見出しと要約はライブドア社が開発したAIにより自動生成されたものです。実験的な機能のため、記事本文と併せてご確認ください。

  • 工学院大学がCu3N薄膜を低温・低コストで形成する新技術を開発したと発表
  • 錯体構造制御Mist CVDと簡便な前駆体設計で高品質な薄膜形成を実現したという
  • 半導体やセンサー材料への応用が期待され7月9日のJST説明会で紹介される

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