機器の内部の配線が激変 光通信化の波
同社が量産する光I/Oコアは、シリコン基板上に光素子を形成する「シリコンフォトニクス技術」で作製した5ミリメートル角サイズの光トランシーバーチップ。1チャンネル当たり毎秒25ギガビット(ギガは10億)の伝送速度を持つ。生産に伴う製造設備は内製化している。動作できる温度範囲はマイナス40度―プラス105度C。
光通信はすでに建物間などをつなぐ2キロメートル以上の長距離利用が進んでおり、今後は電気機器間や機器の内部など50センチメートル以下の短距離利用が進む見通し。米グーグル、アマゾン、フェイスブック、アップルの「GAFA」を中心とするIT大手企業のデータセンターでは、使用される情報通信機器に低消費電力化と高速化が求められ、電力や通信の限界が課題となっている。
シリコンを使った光工学の市場は仏調査会社「Yole」によると、25年に31億6900万ドル(約3500億円)に拡大する。ただ、同調査はスーパーコンピューターや第5世代通信(5G)、自動車などの市場は含んでいない。そのため、他の業種でも普及が進めば、さらに巨大な市場に変わる可能性を秘めている。
