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キヤノンは2月23日、ナノインプリントリソグラフィ(NIL)用テンプレートを製造する量産用マスクレプリカ製造装置「FPA-1100NR2」を製品化したと発表した。

NILを用いた半導体デバイスの量産では、従来の露光マスクの代わりとなるテンプレートの製造コストやリードタイムが課題となっていた。同社は、半導体の回路形成工程において、高価なマスターテンプレートではなく、そこから複製されたレプリカテンプレートを用いることで、製造コストの低減を図ることを目指しており、同装置は、その実現に向けた第一弾となる。

なお、同装置はすでに3D NANDの次世代プロセスに向けたテンプレートの供給を計画している大日本印刷(DNP)グループに納入される予定であるという。

(小林行雄)