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京都大学(京大)は1月31日、培養基質のコーティング処理を必要としない、ヒト多能性幹細胞の拡大培養法を開発したと発表した。

同成果は、同大 ウイルス・再生医科学研究所の末盛博文 准教授、同 物質-細胞統合システム拠点(iCeMS)の宮崎隆道 特定助教らによるもの。詳細は英国の学術誌「Scientific Reports」に掲載された。

ヒト胚性幹(ES)細胞や人工多能性幹(iPS)細胞のような多能性幹細胞の活用に向け、多くの細胞を生産するためには、培養容器への多能性幹細胞の接着性を高め、生存性を向上させるのに適した培養基質を、容器内にあらかじめコーティングしておく必要があるが、この作業は通常、培養細胞を移し替える(継代)直前に1時間から一晩、緩衝液に溶解させた状態で恒温処理する工程が必要とされており、このため、多能性幹細胞の培養操作には時間と手間が必要とされていた。

研究グループは今回、多能性幹細胞の維持培養に効果的とされる3つの培養基質、「ラミニン511断片(iMatrix-511)」、「ビトロネクチン(rhVTN-N)」、「ラミニン521(laminin-521)」を用いることで、コーティング処理を行わないでも、従来同様安定した多能性幹細胞の接着培養が可能になることを確認。また、ラミニン断片を添加法で利用する方が、従来のコーティング処理よりも少ない使用量で、多能性幹細胞の最大接着効果が得られること、ならびに使用した培養基質の中、ラミニン断片のみが添加法で効率的に機能することなども確認したという。 ラミニン断片を培養基質として用いる培養法は、ヒトiPS細胞の樹立や維持拡大など、国内の基板技術として普及しているが、今回の成果はその培養法を利用している粗方の操作に適応できる可能性があると研究グループでは説明。これにより、ヒト多能性幹細胞利用の低コスト化と細胞培養操作の簡便化に繋がることが期待されるとするほか、その効果により、ヒト多能性幹細胞を利用した創薬研究や細胞療法の実用化の加速も期待されるとコメントしている。